濺射靶材用于磁控濺射鍍膜，濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜(PVD)方式。
在被濺射的靶極(陰極)與陽(yáng)極之間加一個(gè)正交磁場(chǎng)和電場(chǎng)，在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為Ar氣)，在電場(chǎng)的作用下，Ar氣電離成正離子和電子， 靶上加有一定的負高壓，從靶極發(fā)出的電子受磁場(chǎng)的作用與工作氣體的電離幾率增大，在陰極附近形成高密度的等離子體，Ar離子在洛侖茲力的作用下加速飛向靶面， 以很高的速度轟擊靶面，使靶上被濺射出來(lái)的原子遵循動(dòng)量轉換原理以較高的動(dòng)能脫離靶面飛向基片淀積成膜。
濺射鍍膜的主要應用于：平板顯示器、鍍膜玻璃工業(yè)(主要包括建筑玻璃、汽車(chē)玻璃、光學(xué)薄膜玻璃等)、薄膜太陽(yáng)能、 表面工程(裝飾&工具)、（磁、光）記錄介質(zhì)、微電子、汽車(chē)車(chē)燈、裝飾鍍膜等。
在旋轉靶領(lǐng)域，科威在09年率先提出一體式鉬管靶的概念，已經(jīng)得到了國內外客戶(hù)的認可?？梢愿鶕脩?hù)的要求提供以下尺寸的鉬濺射靶材:
平面靶材: 單重:≤260kg, 純度:≥99.97%
旋轉靶材-管靶: OD:Φ140-180mm;ID:Φ125-Φ135mm. 長(cháng)度≤3500mm ,純度:≥99.97%
化學(xué)成份
| 鉬含量 |
其它元素含量總和 |
每種元素含量 |
| ≥99.97% |
≤0.03% |
≤0.001% |
|
